پت گلسینگر، مدیرعامل سابق شرکت اینتل، به عنوان رئیس هیئت مدیره به شرکت پایه‌گذاری xLight پیوسته است. این شرکت تلاش می‌کند با استفاده از شتاب‌دهنده‌های ذرات، فناوری لیزر الکترون آزاد (FEL) را برای تولید نور مورد نیاز در فرآیند لیتوگرافی EUV توسعه دهد. این فناوری می‌تواند مسیر ساخت تراشه‌های پیشرفته را با بازده بیشتر و هزینه‌های کمتر تغییر دهد.

با اشاره به نوشته‌ای از Tomshardware، لیتوگرافی EUV با استفاده از نور فرابنفش با طول موج ۱۳.۵ نانومتر، امکان ایجاد الگوهای بسیار ریز روی ویفرهای سیلیکونی را فراهم می‌کند. در حال حاضر، فقط شرکت ASML توانایی ساخت این دستگاه‌ها را دارد، اما xLight قصد دارد با تولید منبع نور جدید، امکان استفاده از شتاب‌دهنده‌های ذرات را در این فرآیند فراهم کند.

گلسینگر ادعا می‌کند که منبع نوری xLight چهار برابر قدرتمندتر از مدل‌های تجاری فعلی است و توانی بیش از ۱۰۰۰ وات دارد. در مقایسه، توان دستگاه‌های ASML حداکثر تا ۳۰۰ وات می‌رسد. انتظار می‌رود که این تکنولوژی با توان بالا تا سال ۲۰۲۸ برای استفاده تجاری آماده شود.

xLight ادعا می‌کند که فناوری این شرکت می‌تواند هزینه‌ی تولید هر ویفر را تا ۵۰ درصد و هزینه‌های سرمایه‌ای و عملیاتی را تا سه برابر کاهش دهد. با توجه به قیمت‌های بالای دستگاه‌های فعلی، چنین کاهش‌هایی می‌تواند تحولات مهمی در صنعت نیمه‌رساناها ایجاد کند.

برخلاف این، xLight قصد ندارد که ASML را جایگزین کند؛ بلکه هدف آن ایجاد منبع نوری است که با ابزارهای ASML هماهنگ باشد. با این حال، به دلیل تفاوت‌های طراحی در نسل‌های مختلف دستگاه‌ها، احتمالاً استفاده از فناوری FEL در نسل‌های جدید تراشه‌سازی ممکن خواهد بود. این فناوری همچنین در حوزه‌هایی مانند تصویربرداری پزشکی، امنیت ملی و پژوهش‌های علمی نیز کاربردها دارد.